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鉅為推低溫觸媒技術 引領半導體廢氣處理新時代

本文共1042字

經濟日報 李炎奇

以低溫觸媒吸附技術 重構半導體廢氣處理經濟模型

在碳費與國際碳邊境機制(CBAM)雙重推進下,半導體製造的競爭邏輯正悄然轉變。從過去單純追求良率與產能,轉向「碳效率 × 製程效率 × 營運成本」三軸並行的新平衡。在此背景下,鉅為公司宣布擴大布局工業尾氣處理市場,推出以「觸媒化學吸附」為核心的低溫廢氣治理方案,鎖定晶圓廠、PCB與封裝測試產線中砷(As)、磷(P)、硼(B)、NOx、與全氟化物(PFCs)等高風險排放氣體。

鉅為宣布擴大布局工業尾氣處理市場,推出以「觸媒化學吸附」為核心的低溫廢氣治理方案...
鉅為宣布擴大布局工業尾氣處理市場,推出以「觸媒化學吸附」為核心的低溫廢氣治理方案,已廣泛應用至半導體先進製程、PCB與封裝製程、火力發電及焚化爐等多元場域。 鉅為公司/提供

從高溫燃燒到低溫吸附 優化成本結構

目前業界主流仍以「高溫燃燒+濕式洗滌」處理廢氣,系統運行溫度動輒上千度,不僅仰賴大量天然氣與冷卻水,更易在含氮、含氧氣體環境中,衍生氮氧化物(NOx)等二次污染。在碳成本逐步內部化的趨勢下,這類「高能耗換合規」的處理模式,開始面臨經濟性挑戰。

鉅為此次推出的解決方案,將反應溫度壓低至約400–450°C,透過專利吸附劑進行選擇性化學反應,在源頭即完成污染物分解,避免NOx生成。與傳統燃燒法不同,這套系統不再依賴極端高溫,自然也大幅降低能源消耗。不是把氣體燒掉,而是用化學機制精準處理。技術升級背後,真正的改變在於「算帳方式」。這讓尾氣處理從過去「必要支出」,轉變為「可優化的成本模組」。

從單點設備走向跨產業平台技術 延伸多元應用場景

該技術目前已延伸至多元應用場景,包括:半導體先進製程尾氣、PCB與封裝製程排放、火力發電廠煙氣、焚化爐複合污染氣體。實測顯示,氮氧化物去除效率可達98%以上,並已通過工研院等第三方單位驗證,使過去難以量化的污染問題,轉為可監測、可優化的數據資產。

相較傳統系統,新一代吸附濾桶壽命可達,整體處理成本降低約10–15%。在大型晶圓廠運作規模下,年節省金額可達數千萬元。這不僅是環保投資,更是一項具備「可回收報酬」的營運優化工具。

ESG走向「可計算」 掌握技術主導權

鉅為近年同步推動工業濾網循環經濟,透過廢棄物再利用與模組化濾材設計,將一次性濾網轉型為可維修、可替換的長期資產。在供應鏈ESG要求日益嚴格的情境下,「減碳+減廢+降本」三者的交集,正成為設備選型的新標準。

鉅為總經理簡臨君指出:「當碳排成本從外部壓力轉為企業內部財務指標,誰能先把排放變成可控變數,誰就能在下一輪產業競爭中取得主導位置」。

鉅為的技術策略,不只是提供一套設備,而是建立一套低碳製程解決方案。隨著半導體產業邁入「碳管理精細化」階段,尾氣處理不再只是後段配套,是影響碳權成本、國際訂單競爭力與供應鏈話語權的核心能力的關鍵資產。

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