本文共634字
新元鋒精密公司、陽明交通大學與瑞士先進陰極射線致發光（Cathodoluminescence, CL）技術領導廠商Attolight AG，3月4日聯合舉辦「CL 應用技術研討會」，多家第三方實驗室及多家寬能隙半導體製造公司等產業先進出席交流，現場互動熱烈。
全球半導體與光電產業持續朝向高頻高速、寬能隙半導體與異質整合架構發展，材料缺陷對元件效能與良率的影響更加關鍵。如何在奈米尺度下精準辨識深能階缺陷、分析材料發光行為並掌握界面特性，成為製程優化與研發突破的重要核心。
本次研討會聚焦CL技術在寬能隙半導體如碳化矽與氧化鎵，及新型光電材料中的應用潛力，並透過實際案例分享，說明高空間解析光譜分析如何協助企業提升製程穩定度與產品可靠性。陽明交大周武清教授指出，高階材料分析能力是串連基礎研究與產業應用的重要橋樑，透過與國際設備技術的接軌，有助於強化台灣在先進材料與半導體領域的研究能量。Attolight 專家團隊分享歐洲及全球市場的技術應用經驗，展示 CL 技術於寬能隙半導體與複合材料缺陷分析上的成果，與現場來賓進行深入技術交流。
新元鋒精密公司表示，Attolight公司是全球唯一能提供晶圓級CL技術的領導廠商，隨著製程微縮，圖形化的材料缺陷分析將成為CL技術趨勢。該公司持續引進全球領先之高解析分析設備，協助台灣產業建立更完整的缺陷解析與材料評估能力。並將深化與學界、第三方實驗室及產業界合作，打造高階材料分析技術交流平台，為台灣高階製造生態系注入更多創新動能。
※ 歡迎用「轉貼」或「分享」的方式轉傳文章連結；未經授權，請勿複製轉貼文章內容
留言