新元鋒精密3/4舉辦「陰極射線致發光光譜應用技術研討會」

新元鋒精密公司宣布，取得全球陰極射線致發光光譜（Cathodoluminescence, CL）技術領導品牌—瑞士 Attolight AG 的台灣總代理權，全面引進其世界領先的奈米尺度光學與材料分析解決方案，服務半導體、先進材料與學術研究單位。

為深化陰極射線致發光光譜於先進材料與半導體研究領域的應用，新元鋒將於2026年3月 4日，攜手國立陽明交通大學與 Attolight AG，三方聯合主辦「陰極射線致發光光譜（CL）應用技術研討會」，邀集國內外學界與產業專家，深入探討 CL 技術於奈米尺度材料分析、光電元件與先進製程之最新應用成果。

CL技術 揭示奈米尺度光學與材料關鍵資訊

Attolight 為全球少數專注於高解析陰極射線致發光光譜系統的專業廠商，其核心技術可將空間解析度推進至奈米等級，同時兼具高光譜解析能力，研究人員得以在SEM或專用平台中，直接解析材料的能隙結構、缺陷態分佈、應變效應與量子結構發光行為。

相較於傳統光激發（PL）分析方法，CL技術具備更優異的空間解析能力，特別適用於：第三代半導體材料（GaN、SiC、AlN）；2.量子井、量子點與異質結構分析；3.先進封裝與微奈米結構缺陷鑑別；4.新世代光電、顯示與奈米材料研發。

Attolight 的 CL解決方案已廣泛導入歐洲頂尖研究機構及國際半導體研發中心，成為高階材料光學分析的重要關鍵工具。

三方聯合主辦 深化產學研技術交流

本次研討會由陽明交通大學、新元鋒精密與 Attolight AG 三方聯合主辦，結合學術研究能量、在地產業服務與原廠技術優勢，打造高水準的技術交流平台。會中將由 Attolight 原廠專家與國內學研代表，分享 CL 技術的系統原理、實際量測案例與前瞻應用發展，議題涵蓋：陰極射線致發光光譜系統架構與量測原理、CL 在半導體與奈米材料研究中的關鍵應用、

CL與SEM、AFM、TEM 等分析技術的整合趨勢、國際研究案例分享與未來技術發展方向。透過跨領域、跨單位的深度交流，促進 CL技術在台灣高科技產業與前瞻科研領域的實質應用與落地。

新元鋒引進關鍵技術 強化台灣先進材料分析實力

新元鋒精密長期深耕高階精密設備與先進材料分析市場，服務對象涵蓋半導體、光電、材料研究與學術單位。此次成為 Attolight 台灣總代理，不僅補齊奈米尺度光學分析的關鍵拼圖，也展現持續引進全球頂尖技術、協助台灣產業與研究單位提升國際競爭力的長期承諾。

未來，新元鋒精密將提供完整的在地化技術支援、教育訓練與應用諮詢服務，協助客戶充分發揮陰極射線致發光光譜技術在研發與製程分析中的價值。

活動資訊

日期：2026 年 3 月 4 日

時間：10:00 （入場）

地點：陽明交通大學基礎科學研究大樓科學三館353室。（因場地限制，60人為限）