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日經:遭美國間諜罪起訴 聯電大減對晉華支援

2019-01-04 22:00中央社 記者楊明珠東京4日專電

日本經濟新聞今天發自台北的報導指出,聯華電子大幅縮小對晉華集成電路的技術支援,可能悄悄實質解散研發小組,因為美國以間諜罪起訴這兩家企業,也限制對其出口製造裝置。

相關人士透露,聯電對晉華提供技術支援設有一個約由300人組成的研發部門,去年年底已通知這個部門將裁員,其中約140人將被調至其他部門,並已通知其中部分人員將遭解雇。

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這個研發部門位於台南,有相關人士透露:「業務已幾乎停止運作,實質已解散。」聯電對日本經濟新聞說:「不會公開內部人員的調整。」至於是否將結束與晉華的業務合作,聯電沒有明說,只表示目前暫停。

晉華是中國3大半導體記憶體專案計畫之一,2016年2月由福建省官方企業出資成立,投資人民幣370億元,由聯電提供技術支援,生產DRAM,被視為中國強調要打造世界第一製造強國「中國製造2025」核心事業的一環。

聯電是世界第3大晶圓代工廠,為發展DRAM製造累積技術,2016年5月與晉華合作。雙方締約內容由聯電提供技術,以獲取回饋金,但聯電在製造上不需負擔巨額投資金。

報導說,美國對於中國高科技產業崛起以及產業間諜行為提高警戒,川普政府抨擊聯電與晉華竊取美國半導體大廠美光科技(Micron Technology Inc.)的技術,去年10月祭出新措施,要求美國企業禁止對這兩家企業提供技術。

去年11月,美國司法部門以竊取美國商業機密的產業間諜罪為由,起訴這兩家企業。聯電表示,為了收拾局面,暫停與晉華合作。

聯電可能研判如果與晉華持續合作,聯電就無法從美國獲得技術或引進半導體製造裝置,事業將受限,也可能會影響來自美國顧客的委託生產。

日經報導,聯電無法表明將終止與晉華的契約或解除與中國官方合作的方針。相關人士透露說:「就變成悄悄地實質解散研發小組。」(編輯:林憬屏)

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