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經濟日報 記者任君翔／台北報導
化工廠三福化（4755）昨（10）日表示，旗下氫氧化四甲基銨（TMAH）顯影劑回收業務，明年首季導入國內半導體大廠，預計第2季放量；切入CoWos先進封裝製程的光阻剝離劑產品，明年需求也估將持續成長。
三福化昨日召開法人說明會，由財務長羅主誠主持。
展望明年，羅主誠表示，旗下新興化學品、精密化學品及基礎化學品三大事業群，明年整體目標成長率大致均維持在2-4%之間，整體成長亮點主要還是會來自半導體以及人工智慧（AI）等相關應用領域。
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