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汎銓9月敲定MSS HG光損定位設備銷售版 今年底開賣

本文共931字

聯合報 記者簡永祥/台北即時報導

汎銓(6830)備受市場關注的矽光子檢測設備不再只聞樓梯響了,根據法人最新拜會,汎銓已預定在今年9月敲定銷售版規格,並在今年底正式銷售,也這意謂聚焦新世代矽光子傳輸廠商,決定加快研發腳步,導入矽光子關鍵光損斷光檢測設備,推速以光取代銅線傳輸的時程。

汎銓經營團隊稍早在由國票證券舉辦的法說會時,宣布董事會擬定將朝向「 服務+設備+授權」三軌並進的新營運模式後,市場即一直聚焦汎銓何時能正式推出具獨家專利「光損偵測」設備,搶矽光子與CPO商機。

根據法人圈最新消息,汎銓以MSS HG命名的矽光子「光損偵測」設備,銷售版預計將於今年9月完成最終驗證與產品定型,並積極展開客戶導入作業,目標於今年底前正式啟動設備銷售。

至於法人關注到底有哪些廠商需要購買這套獨家專利設備,法人圈透露,這些買家除了目前與汎銓緊密合作的PIC晶圓廠、AI晶片公司外,還包括光模組廠及系統廠,以克服難度極高的光損缺陷的需求。

從汎銓敲定9月正式銷售版MSS HG設備規格,對照大立光也計畫9月前建置完成首條光纖陣列 (FA) 自動化試產線,並將邀請潛在客戶參觀驗證,更可凸顯AI晶片大廠,正加速矽光子作為未來AI巨量傳輸的核心。

為何市場密切關注汎銓MSS HG光損偵監設備推出時間,法人透露表示,矽光子的重要性在高速光通訊架構中,O-O(Optical-to-Optical)光訊號傳輸路徑為影響整體效能與穩定度的關鍵,光損問題更是影響晶片良率與可靠度的重要因素。汎銓已手握台灣、日本、美國及南韓的「光損偵測裝置」發明專利,能精準定位光訊號傳輸過程中的漏光與損耗位置,不僅有助於協助客戶縮短研發除錯時間,亦可有效提升量產良率與產品穩定性,直接切入矽光子與CPO技術關鍵節點。

汎銓稍早在法說會也強調,相較目前市場多數業者仍停留在單點材料分析或單一光學量測階段,具備完整O-O光路失效解析能力的廠商仍屬少數,顯示該領域具備高度技術門檻與進入障礙。

據調查,汎銓因已累積多家國際級晶圓廠、Tier-1 AI公司、PIC設計公司及光模組廠服務實績,隨著矽光子與CPO逐步邁向量產階段,光損定位與根因分析的重要性將持續提升,汎銓將憑藉分析服務、設備平台及專利布局三大優勢,掌握新一波AI與光通訊產業成長契機。

汎銓9月敲定MSS HG光損定位設備銷售版,今年底開賣。圖/汎銓提供
汎銓9月敲定MSS HG光損定位設備銷售版,今年底開賣。圖/汎銓提供

汎銓MSS HG平台Logo設計,結合晶圓金屬質感呈現HG字樣,並以觀測矽光子漏...
汎銓MSS HG平台Logo設計,結合晶圓金屬質感呈現HG字樣,並以觀測矽光子漏光時,實際捕促到的紅偏粉光點的光學影像,展現其高精度光損定位與檢測技術核心。圖/汎銓提供

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