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嵌入式深溝槽電容技術 解決供電痛點

本文共548字

經濟日報 記者李孟珊/台北報導

AI浪潮推升高效能運算(HPC)與AI伺服器需求爆發,晶片效能提升帶動功耗增加,業界預估,下一世代AI加速器功耗將朝千瓦(kW)等級邁進,在先進封裝晶片內提供穩定且高效率的供電能力需求,達到瞬間供電,讓嵌入式深溝槽電容技術受市場高度關注。

業界指出,DTC是透過半導體製程在矽晶片內蝕刻出深溝槽結構,形成高密度電容元件,整合至矽中介層(Interposer)或先進封裝架構中。相較傳統製程將電容配置在封裝基板或電路板上,DTC能夠更靠近運算晶片核心,大幅縮短供電距離,降低電壓波動與電源雜訊,提升系統穩定度。

法人分析,DTC不僅可應用於AI加速器與GPU,也適用於網通、車用電子及高階行動處理器等領域,具備相關技術與量產能力的業者,有機會在AI應用成長過程中,成為下一波產業升級的重要受惠者。

除了雲端AI伺服器外,邊緣AI市場同樣為DTC帶來龐大商機,業界補充,像是AI PC、智慧手機、AR眼鏡及各類智慧終端設備陸續導入生成式AI功能,晶片對運算效能與能源效率要求同步提升,相關供電管理技術需求也將水漲船高。

業界分析,AI晶片在高速運算過程中,常出現瞬間電流大幅變化,若供電系統反應慢,影響晶片效能。DTC具備高電容密度與低寄生效應等優勢,提供瞬時電流需求,成為先進封裝提升電源完整性的解決方案。

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