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英國金融時報報導，華為扮演中國國產深紫外光（DUV）曝光機發展的統籌者，從曝光機、鏡頭到光源全面布局，並協助國產設備打進中芯國際（SMIC）等晶圓廠。上海業者宇量昇共同開發的頭一台中國自製先進DUV曝光機，更已在中芯和華為自家生產線測試，最終目標是用來生產先進AI晶片。
知情人士透露，宇量昇是從和華為關係密切的新凱來分拆而成立的，目前正和上海微電子裝備（SMEE）開發多款DUV原型機。中芯已測試宇量昇的28奈米設備，並利用多重曝光技術生產7奈米晶片。不過，大陸國產設備要達到荷蘭艾司摩爾（ASML）同級機台的生產效率，可能仍需數年驗證和調校。
伯恩斯坦半導體分析師林清遠指出，華為正在中國DUV發展中扮演「專案管理」角色。光有原型機還不夠，必須整合數千家供應商和客戶共同改良設備，而華為正成為居中協調這套體系的力量。
華為的布局已深入大陸曝光機最難突破的兩大環節──投影鏡頭和高功率光源。旗下哈勃投資和華為支持的深圳遠致星火，都投資超精密光學業者福建至期光子，這家福晶科技旗下的公司正開發可望取代德國蔡司（Zeiss）的曝光機鏡頭。哈勃也投資北京科益虹源，這家公司也正和上海微電子合作開發28奈米DUV曝光機光源，力拚取代日本極光先進雷射（Gigaphoton）和ASML旗下Cymer的產品。
不過，陸製DUV距離真正取代ASML仍有一段路。宇量昇目前使用的投影鏡頭據稱仍來自蔡司，業界人士認為可能透過大陸二手市場取得；中芯雖已採購並測試國產DUV，量產仍主要仰賴ASML設備。
據報導，長鑫存儲（CXMT）和長江存儲（YMTC）甚至已囤積足以支應未來三年擴產的ASML DUV設備，顯示中國目前仍採取雙軌策略：一面靠ASML設備維持量產，一面加速驗證國產機台。
林清遠認為，美國出口管制反而可能迫使大陸晶圓廠更積極和本土設備商合作。若國產設備因此獲得更多實際產線驗證，大陸曝光機技術的進展可能比外界預期更快。
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