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美國會晶片設備銷陸議案刪減限制 但 ASML 的 DUV 仍受限

美國國會新版「MATCH」立法提案,傳出仍保留艾司摩爾(ASML)深紫外光浸潤式微影設備(DUV)出口到中國大陸的限制。 路透
美國國會新版「MATCH」立法提案,傳出仍保留艾司摩爾(ASML)深紫外光浸潤式微影設備(DUV)出口到中國大陸的限制。 路透

本文共858字

經濟日報 編譯黃淑玲/綜合外電

路透報導,美國國會一項旨在阻止更多晶片製造設備流入中國大陸的法案提案,已刪減部分內容,但仍包含針對艾司摩爾(ASML)深紫外光浸潤式微影設備(DUV)的限制。艾司摩爾對此拒絕評論。

維護美國在AI領域領先地位

這項在眾議院提出、名為「MATCH」的立法提案,獲得兩黨議員支持,目的是要填補對銷往中國大陸晶片製造設備限制中的漏洞,並使美國與日本、荷蘭等其他國家的政策保持一致。

路透看到的MATCH法案新版本當中,許多初版列出的限制條款已被刪除,例如,刪除了針對晶片低溫蝕刻設備的全國性限制。這類晶片製造設備的生產商包括總部在加州的科林研發(Lam Research)和日本東京威力科創(Tokyo Electron)。

不過,經調整後的新版法案仍禁止外國企業向中國大陸的長鑫存儲、長江存儲和中芯國際等,已被美國列入禁用美制設備的陸企提供設備。

MATCH是「硬體技術管制多邊協調法案」(Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware Act)的縮寫,希望維護美國在人工智慧(AI)領域的領先地位。

專家形容是一列「失控的列車」

法案4月初提出最初版本後,令美國及海外業者感到不安,有專家形容是一列「失控的列車」,該案不僅要迫使盟友與美國的管制措施保持一致,還施加了新的全國性的、廣泛的企業限制。製造商表示,這些限制會減少出口,損害銷售。

提出法案的眾議員鮑加納(Michael Baumgartner)現在計劃以新版本替代最初版本。眾議院外交事務委員會預定下周三表決MATCH法案,同時還將對十餘項涉及AI、半導體及出口管制的其他議案進行表決。

美國2022年底開始管制晶片製造設備輸往中國大陸,限制實施後,美國一直試圖與荷蘭、日本協調管制政策。MATCH法案為美國與盟國供應商進行的外交談判設定了最後期限,並明定在期限屆滿後要求美國單方面實施管制。

中國大陸的晶片製造商未回應路透的置評請求。中國駐華盛頓大使館發言人則是表示,北京將密切關注事態發展,並維護自身權益。

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