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經濟日報 編譯黃淑玲／綜合外電
日媒報導，大日本印刷株式会社（DNP）已經開發出新技術，能節省半導體先進製程用電達90%。大日本印刷預定2027年量產相關的電路模版材料，提供佳能（Canon）的奈米壓印微影（NIL）晶片製造設備使用，以生產1.4奈米製程晶片。
日經說，南韓三星電子和台灣台積電和規劃在2027年和2028年開始量產新世代1.4奈米晶片，兩家晶片廠均對奈米壓印微影設備有興趣，但是他們的工廠設計是光學微影設備，要轉換有很高門檻。
目前最先進製程晶片的製造設備，只有荷蘭艾司摩爾（ASML）一家，供應極紫外光（EUV）微影設備。
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