ASML High NA EUV 邁入新里程碑 英特爾晶圓代工導入量產

全球晶片微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）15日發布 2026 年第2季財報與展望，同時提到High NA EUV 技術邁入新里程碑，英特爾晶圓代工（Intel Foundry）已將 ASML EXE High NA EUV 技術用於量產部分代號為 Panther Lake 的 Intel® Core™ Ultra Series 3 處理器。

依據雙方新聞稿，Intel 18A 特定層數目前也已於美國奧勒岡州完成 High NA EUV 製程的雙重驗證，產品良率已達到與 NXE 平台相當的水準，並開始出貨給客戶。英特爾與 ASML 將持續深化合作，推進 High NA EUV 技術的導入，並依據客戶需求，靈活應用於未來製程節點。

依據ASML財報第2季銷售淨額 (net sales) 為 93 億歐元，淨收入為 (net income) 29 億歐元，毛利率 (gross margin) 為 54%。ASML 同時公布 2026 年第3季指引，預估銷售淨額約 110 至 120 億歐元之間，毛利率預估約 55% 至 57%。此外，ASML 預計 2026 年的銷售淨額約在 430 億至 450 億歐元之間，毛利率約為 54% 至 56%，全年展望再度上修。

ASML 執行長 Christophe Fouquet 表示：「我們第2季的總銷售淨額達為 93 億歐元，毛利率為 54%，均高於指引，主要來自於銷售與累積裝機管理收入高於預期。」

「AI 相關領域的投資與技術持續發展，正帶動先進邏輯與儲存晶片需求成長，進一步強化半導體產業的成長前景。因應此趨勢，我們的客戶也在不斷加速其產能擴張計劃，並轉換成對我們產品組合的承諾，增加我們對未來市場需求的能見度。由於今年上半年市場訂單量仍然非常強勁，基於此成長動能，我們規劃於 2027 年將 Low NA EUV 微影設備產能從 2026 年的 65 台提升 30%，並進一步評估於 2028 年再增加 30% 的產能。我們同時也計劃將 2026 年約 130 台浸潤式 DUV 微影系統的產能於 2027 年增加 30%，並研究於 2028 年再增加 30% 的可能性。此外，我們也持續大幅擴展設備升級產品組合服務。」

Christophe Fouquet 表示，預估 2026 第3季總銷售淨額約 110 億到 120 億歐元，毛利率介於 55% 至 57% 之間。預估研發成本約為 12 億歐元，銷售與管理費用（SG&A）約為 4 億歐元。我們預計 2026 年總銷售淨額為 430 億到 450 億之間，毛利率約為 54% 到 56%。我們將於 2027 年 6 月 10 日舉辦下一次的資本市場日（Capital Markets Day），屆時將根據自上次資本市場日以來市場與技術發展的最新動態，更新我們對中長期市場展望的看法。

ASML提到根據目前 2026 – 2028 年的股票回購計劃，ASML 在第2季回購了價值約 11 億歐元的股份。普通股每股 1.88 歐元的期中股息將於 2026 年 8 月 5 日發放。